氧化亚硅真空升华炉是鸿峰窑炉自主设计、制造的专业应用于氧化亚硅材料制备的专用装备。
设备特点:
(1)生产方式:周期式生产
(2)加热区尺寸:加热区总长 1000mm,直径φ400mm
(3)装填量:约 100L
(4)收集区尺寸:长度 300mm , 直径约φ400mm
(5)使用功率:加热功率 30Kw(其中真空泵 1.5KW)
(6)额定电压:380V50HZ
(7)设计温度:RT~1350℃
(8)测温点:一个
(9)控温区数:一区
(10)温控精度:≤±2℃
(11)冷态极限真空度:≤100Pa(烘炉除气后且为空炉和冷态)
(12)设备外形尺寸:L2610×W1000×H1750(mm)(以最终制造为准)