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    VIEW MicroLine 300桌上型半自动CD测量系统
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    产品: 浏览次数:4804VIEW MicroLine 300桌上型半自动CD测量系统 
    品牌: QVI VIEW
    X,Y,Z 行程 (mm): 300x300x25
    产地: 美国
    保修期: 1年
    单价: 面议
    最小起订量: 1 台
    供货总量: 100 台
    发货期限: 自买家付款之日起 30 天内发货
    有效期至: 长期有效
    最后更新: 2023-07-27 15:31
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    详细信息

    MicroLine-300是一款桌上型半自动CD测量系统。

     

    主要技术参数:

     

    ◆    测量范围(XYZ):标准:200×200×25mm;可选:300x300x25

    ◆    视场内测量精度:10nm(100X 镜头);Z轴ju jiao范围:25 mm

    ◆    视场内测量范围:0.5um~400um;

    ◆    视场内测量重复性(100x 物镜):  晶圆上<0.010um(1δ); 

                                                       掩模板上0.005um(1δ);   

    ◆    承重:2kg

    ◆    标配镜头10x,可选镜头:5X, 20X, 50X, 100X

     

     

    MicroLineTM 300是一款高性能测量晶圆、光罩、MEMS和其他微加工设备等关键尺寸的自动化测量系统。该系统配备了高质量光学显微镜和精密移动平台,可对200mm的晶圆上0.5µm到400µm的特征尺寸进行全自动的精密视场测量。

     

    n  200 x200mm精密X-Y平台

    n  基于视觉的自动ju jiao获得某佳影像质量

    n  自动照明可编程光强

    n  用于测量透明层、不规则边缘的线、厚膜等的强劲性能

    n  完全可编程的序列,包括自动ju jiao和关键尺寸测量

    n  电动的6目物镜转换器,软件控制

    n  可选的透射照明

    技术规格:

    - 测量行程: 200 x 200 x25mm(XYZ)

    - 平台运行: 交叉滚轴手动同轴定位和快速释放

    - 视场内的测量精度: 0.010µm (用100x物镜)

    - 特征尺寸: 视场内0.5µm - 400µm

    - FOV测量重复性: <0.010µm on wafers (用100x物镜)

    <0.005µm on photomasks (用100x物镜)

    - 照明: 石英卤素灯, 反射光

          自动照明

    - 低噪音CCD VGA格式摄像头

    - 图像处理60帧每秒

    MicroLine 300的典型应用包括:

    l  晶圆

    l  光罩

    l  MEMS

    l  微型组件

    测量类型:

    n  关键尺寸:

    线宽  Linewidth

    节距  Pitch

    间隙  Spacing

    n  Overlay

                Multi-layer registration

    Box in box

    Circle

    Edge roughness

    Butting error


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